Создание отечественного оборудования для производства микроэлектронных компонентов — одна из сложнейших и в то же время базовых задач для отечественной микроэлектроники. Без ее решения любые производства будут находиться в постоянной зависимости от воли иностранных государств. Но масштаб этой задачи трудно переоценить — не зря она покорилась лишь совсем немногим. Поэтому нет ничего удивительного в том, что ее взялись решать в рамках Союзного государства.
Вопрос: Одна из самых трудоемких задач для отечественной микроэлектроники сегодня — это создание собственного литографического оборудования. Насколько я знаю, совместно с белорусскими коллегами завершена разработка установки на 350 нм и уже ведется изготовление серийных машин. Какой главный технологический вызов удалось преодолеть в кооперации с Минском?
В России создан первый отечественный литограф, который позволит печатать чипы с разрешением до 350 нанометров. Сейчас он проходит испытания в Зеленограде.
Об этом сообщил замминистра промышленности и торговли России в кулуарах конференции «Цифровая индустрия промышленной России» (ЦИПР), проходящей в Нижнем Новгороде с 21 по 24 мая.
Ученые научного центра мирового уровня «Передовые цифровые технологии» Санкт-Петербургского политехнического университета Петра Великого (СПбПУ) разработали импортозамещающий технологический комплекс, на котором можно создавать наноструктуры, необходимые для работы различного микроэлектронного оборудования.
Комплекс состоит из двух частей. Первая — промышленный образец установки безмасочной нанолитографии. Второй элемент комплекса — промышленный образец установки плазмохимического травления кремния. Разработка комплекса поможет решить вопрос технологического суверенитета России в этом направлении в сфере микроэлектроники, отметили в ведомстве.
Впервые в России создан стенд
проекционного нанолитографа с рабочей длиной волны 13,5
нм и расчетным разрешением 30 нм. Изображение
наноструктуры с уменьшением 1:5 проецируется
на фоторезисте с помощью двузеркального асферического
объектива. Создание стенда свидетельствует о наличии
в России ключевых технологий, позволяющих разрабатывать
и производить литографическое оборудование, которое
в ближайшие годы станет основным при производстве чипов
с топологическими нормами 8-22 нм.
