Первый российский литограф уже создан и проходит испытания

В России создан первый отечественный литограф, который позволит печатать чипы с разрешением до 350 нанометров. Сейчас он проходит испытания в Зеленограде.

Об этом сообщил замминистра промышленности и торговли России в кулуарах конференции «Цифровая индустрия промышленной России» (ЦИПР), проходящей в Нижнем Новгороде с 21 по 24 мая.

Оборудование такого уровня сложности собирается всего несколькими крупными компаниями. Среди них нидерландская ASML, а также японские Cаnon и Nikon. 350-нанометровые чипы до сих пор широко используются в различных отраслях, в том числе в автопроме, энергетике и телекоммуникационных системах. Чипы с разрешением до 130 нанометров впервые были произведены в мире в 2001 году. Cледующим этапом станет разработка 90 нанометрового литографа. Ранее прогнозировалось, что первый опытный образец 130-нанометрового литографа будет создан в России только к 2026 году. А к 2028 году Россия должна выйти на производство собственных 28-нанометровых чипов.