На московском предприятии ГК «Лассард» произведены первые опытные образцы эксимерного лазера, который является ключевым для литографического процесса изготовления микроэлектроники с нормами проектирования вплоть до 65 нм.
Эксимерный лазер, опытные образцы которого сегодня произведены ГК «Лассард», позволяет говорить о том, что мы все ближе к производству литографов на 130 нм (который появится в 2026 году), а в перспективе — и на 90нм, — заявили в Министерстве промышленности.