По теме «Ниитм» опубликовано
4 материала
с 2023 года.
За последние 30 дней новых публикаций по этой теме не было.
Связанные темы:
Москва, Микроэлектроника, Импортозамещение, Наука.
НИИМЭ и НИИТМ (оба предприятия входят в ГК Элемент) завершили завершили разработку и сборку первых в России кластерных систем для процессов плазмохимического осаждения (ПХО) и травления (ПХТ). Установки можно использовать в составе производственных линий для выпуска интегральных микросхем по топологическим нормам 65 нм на пластинах 200 мм и 300 мм. Тем самым, российские организации вошли в пятерку компаний в мире, обладающих компетенциями в разработке и производстве данного класса технологического оборудования.
Российская компания НИИТМ, расположенная в Зеленограде (Москва), завершила разработку и представила опытный образец первой отечественной установки для плазмохимического осаждения на 300-миллиметровых кремниевых пластинах. Это оборудование играет ключевую роль в развитии российской микроэлектронной промышленности. Ранее подобные установки закупались за границей, а доступные отечественные аналоги работали с пластинами меньшего диаметра, что ограничивало количество производимых чипов и увеличивало их себестоимость.
Новая технология ускорит развитие силовой микроэлектроники
В России создана первая установка для выращивания кристаллов нитрида галлия на 200-миллиметровых кремниевых подложках. Этот важный шаг в микроэлектронике был достигнут благодаря совместной работе специалистов АО «НИИТМ» (входит в ГК «Элемент»), НТЦ микроэлектроники РАН и ООО «Софт-Импакт».
Ростех запустил собственное производство тканей для парашютных систем нового поколения. Мощности отделочного производства, введенного в строй в Ивановской области, рассчитаны на выпуск более 4 млн погонных метров ткани в год. Этих объемов достаточно, чтобы закрыть потребности всего парашютного дивизиона Госкорпорации.
