Установка фотолитографии НИИПМ г. Воронеж
Для фотолитографических процессов был разработан модульно-кластерный комплекс субмикронной литографии (КФЛ). Уникальность данной установки состоит в том, что все виды фотолитографической обработки объединены единым транспортным устройством в виде робота-манипулятора. Подобные решения в области автоматизации технического процесса были в дальнейшем применены в разработке автоматизированного комплекса для сборки и испытаний солнечных батарей.
Так же в области фотолитографии была разработана и произведена для заказчика установка формирования фоторезистивных пленок «УФП-100М». Особенностью данного оборудования состоит в том, что загрузка пластин из кассеты осуществляется автоматически транспортной системой с последующим переносом пластин с позиции на позицию. Очистка пластин осуществляется применением мегазвука. Термостабилизации пластин осуществляется как на холодной так и на горячей плите.
Для плазмохимических процессов спроектирован автомат скоростного плазмохимического травления «ПЛАЗМА-150». Здесь происходит травление пленок SiO2, ACC, поли-Si, Si3N4 через фоторезистивную маску. Данная установка позволяет получать минимальный размер топологического рисунка до 0,6 мкм. Система оснащена микропроцессорным контролем параметров технологического процесса, автоматическим контролем давления, расхода газа, ВЧ-мощности. Частота используемого генератора составляет 13,56 МГц, а диаметр обрабатываемых пластин — 100 и 150 мм.
В 2012 году для нано-технологического центра МИЭТ был разработан полуавтомат плазмохимического удаления фоторезистивных масок в технологии производства изделий электронной техники и МЭМС, после формирования топологического рисунка на пластинах диаметром 100, 150 мм — «ПЛАЗМА-150МТ». В состав установки входят реактор с системой возбуждения плазмы и устройством предварительного разогрева обрабатываемых пластин. Вакуумная система установки спроектирована на основе использования сухого безмасляного механического насоса. Система управления установкой реализована на основе двухуровневой системы управления.
Другие публикации по теме
- Российская компания «Оптические системы» (Новосибирск) сообщила...естно, сегодня участвует в разработке полностью российского литографа.
- Московская область, 04 февраля — Всероссийский научно-исследоват...sp;радиотехники и незаменимы в промышленной и научной среде.
- Завод «ЦТС» и «Амур Системс» запускают производство сложных серверных решен...ированного программного обеспечения, разработанного инженерами предприятия.



